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簡要描述：數(shù)顯勻膠臺/勻膠臺 型號：MHY-26376本機是用于半導體、集成電路及激光息商標制過程中，在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻（感光）膠的用設備。
產(chǎn)品型號：MHY-26376廠商性質：生產(chǎn)廠家更新時間：2024-07-09訪 問 量：474產(chǎn)品分類
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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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數(shù)顯勻膠臺/勻膠臺 型號：MHY-26376
本機是用于半導體、集成電路及激光息商標制過程中，在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻（感光）膠的用設備。本機的作原理是利用速旋轉時產(chǎn)生的離心力，將滴于基片上多余的光刻（感光）膠液甩去，在光刻（感光）膠表面張力和離心力的共同作用下，展成厚度均勻的膠膜。本機具有勻膠效率、使用方便等優(yōu)點，勻膠速度和勻膠時間分別可調，電器電路具有較的穩(wěn)定性，結構合理，旋轉平穩(wěn)，轉速、時間采用數(shù)字顯示，直觀性強。本機可與光刻機配套使用。
數(shù)顯勻膠臺主要參數(shù)：
1、作電壓： 380V/220V
2、整機率： 1200W
3、勻膠時間控制范圍： 0.01-99.99秒；0.01-99.99分
4、轉速：
0-8000Rpm
5、裝片直徑（可根據(jù)用戶要求定制）： ф35-75mm
6、勻膠位（可根據(jù)用戶要求定制）： 1-4位
7、外形尺寸：
長*寬* 850*810*1600mm
8、凈重： 120kg
本機是用于半導體、集成電路及激光息商標制過程中，在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻（感光）膠的用設備。本機的作原理是利用速旋轉時產(chǎn)生的離心力，將滴于基片上多余的光刻（感光）膠液甩去，在光刻（感光）膠表面張力和離心力的共同作用下，展成厚度均勻的膠膜。本機具有勻膠效率、使用方便等優(yōu)點，勻膠速度和勻膠時間分別可調，電器電路具有較的穩(wěn)定性，結構合理，旋轉平穩(wěn)，轉速、時間采用數(shù)字顯示，直觀性強。本機可與光刻機配套使用。
主要參數(shù)：
1、作電壓： 380V/220V
2、整機率： 1200W
3、勻膠時間控制范圍： 0.01-99.99秒；0.01-99.99分
4、轉速：
0-8000Rpm
5、裝片直徑（可根據(jù)用戶要求定制）： ф35-75mm
6、勻膠位（可根據(jù)用戶要求定制）： 1-4位
7、外形尺寸：
長*寬* 850*810*1600mm
8、凈重： 120kg
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